Abstracto
Las tecnologías de litografía sin máscara se han desarrollado y desempeñan un papel importante en la fabricación de dispositivos micronano funcionales para microelectrónica, biochips y fotónica. La litografía de proyección óptica basada en dispositivos de micromirrores digitales (DMD) es una tecnología de litografía sin máscara eficiente que permite fabricar rápidamente estructuras complejas. La modulación precisa del ancho del espacio mediante litografía de proyección óptica sin máscara (MOPL) con DMD, utilizando un láser de femtosegundos, resulta crucial para lograr microestructuras y nanoestructuras. En este trabajo, hemos investigado la relación entre la morfología de la estructura y la distribución de la intensidad de la luz en el plano de la imagen mediante un modelo de difracción de múltiples rendijas y el principio de imagen de Abbe, y hemos optimizado el ancho del espacio con mayor precisión modulando la energía de exposición. El diámetro de apertura de la lente objetivo tiene un efecto sustancial en la consistencia del patrón. Se obtienen anchos de espacio estructurales ajustables continuamente de 2144 nm, 2158 nm y 1703 nm, correspondientes a 6, 12 y 24 píxeles, variando la energía de exposición en el sistema MOPL de fabricación propia. Sin embargo, la estructura de separación ideal no se puede obtener simplemente ajustando la energía de exposición cuando el ancho de la separación es pequeño, como 1 o 2 píxeles. Además, hemos propuesto una alternativa para lograr estructuras de separación finas mediante el diseño de descomposición estructural y el control preciso de la energía de exposición en diferentes regiones sin modificar el sistema óptico MOPL. Este estudio ofrece un protocolo prometedor para la fabricación de microestructuras de separación con configuración controlable mediante la técnica MOPL.
Compartir artículo
